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发布时间:2024-11-18 人气:
标准简介:本标准规定了硅外延层载流子浓度汞探针电容?电压测量方法。本标准适用于同质的硅外延层载流子浓度测量。测量范围为:4×1013cm-3~8×1016cm-3。本标准测试的硅外延层的厚度必须大于测试偏压下耗尽层的深度。本标准也可适用于硅抛光片的载流子浓度测量。
标准号:GB/T 14146-2009
标准名称:硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
英文名称:Silicon epitaxial layers-determination of carrier concentration-mercury probe voltages-capacitance method
标准类型:国家标准
标准性质:推荐性
标准状态:作废
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
中国标准分类号(CCS):冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合
国际标准分类号(ICS):电气工程>>29.045半导体材料
替代以下标准:被GB/T 14146-2021代替;替代GB/T 14146-1993
起草单位:南京国盛电子有限公司、宁波立立电子股份有限公司、信息产业部专用材料质量监督检验中心
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
发布单位:国家质量监督检验检疫.
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